基片,jipian,BW10-高温超导薄膜的单晶基片

 


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BW10-高温超导薄膜的单晶基片

货号:206ll97lxl0901

氧化锆(ZrO2)单晶基片是最早被开发应用的高温超导基片之一。
由于
ZrO2单晶需掺入钇(Y)以稳定其结构,一般实际使用的是YSZ单晶―加入钇稳定剂的氧化锆单晶。
它机械、化学稳定性好,价格较低,特别适于用在试验性薄膜制备工作中。
氧化锆也是制作双晶基片(用于高温超导结构技术)的良好材料。

晶系

 立方晶系

晶格常数(Å

 a=5.147

熔点(℃)

2700

密度(g/cm3

6.0

莫氏硬度

8-8.5

热膨胀系数(/)

10.3x10-6

介电常数

ε=27

特点

价格较低

生长方法

弧熔法

基片规格:

尺    寸: 10x3,10x5,10x10,15x15,Ф15,20x15,20x20,Ф25等;

厚    度: 0.5mm,1.0mm等;

尺寸公差:<±0.1mm;

厚度公差:<±0.015mm(特殊要求可达到<±0.005mm);

表面抛光:单面或双面;

取向:<100>,<110>,<111>等;

晶面定向精度:±0.5°;

边缘定向精度: 2°(特殊要求可达1°以内);

斜切晶片:可按特定需求,加工边缘取向的晶面按特定角度倾斜(倾斜角1°-45°)的晶片;

Ra:≤5Å(5μm×5μm);

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