氧化锆(ZrO2)单晶基片是最早被开发应用的高温超导基片之一。
由于ZrO2单晶需掺入钇(Y)以稳定其结构,一般实际使用的是YSZ单晶―加入钇稳定剂的氧化锆单晶。
它机械、化学稳定性好,价格较低,特别适于用在试验性薄膜制备工作中。
氧化锆也是制作双晶基片(用于高温超导结构技术)的良好材料。
晶系
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立方晶系
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晶格常数(Å)
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a=5.147
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熔点(℃)
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2700
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密度(g/cm3)
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6.0
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莫氏硬度
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8-8.5
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热膨胀系数(/℃)
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10.3x10-6
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介电常数
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ε=27
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特点
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价格较低
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生长方法
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弧熔法
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基片规格:
尺
寸: 10x3,10x5,10x10,15x15,Ф15,20x15,20x20,Ф25等;
厚
度: 0.5mm,1.0mm等;
尺寸公差:<±0.1mm;
厚度公差:<±0.015mm(特殊要求可达到<±0.005mm);
表面抛光:单面或双面;
取向:<100>,<110>,<111>等;
晶面定向精度:±0.5°;
边缘定向精度:
2°(特殊要求可达1°以内);
斜切晶片:可按特定需求,加工边缘取向的晶面按特定角度倾斜(倾斜角1°-45°)的晶片;
Ra:≤5Å(5μm×5μm);
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